当下，就算是许多并不算了解半导体行业的人，相信对光刻机也有所耳闻。光刻机是芯片制造过程中所需的重要设备，芯片的最小制程与光刻机的精度有着至关重要的作用。但其实，除光刻机外，还有一种设备非常重要，那便是刻蚀机，二者重要程度可以说是不相上下。

值得注意的是，比起在光刻机领域的落后，我国中微半导体公司的刻蚀机技术却在全球领先。据公开资料显示：中微半导体的创始人为尹志尧，他曾在美国半导体巨头应用材料有过13年的工作经验，耳顺之年的他于2004年创建了这家企业。

理论知识与实践经验兼顾的尹志尧在创立公司不久后，便取得了累累的硕果。2007年时，其成功研制CCP刻蚀设备，并顺利打入了海外市场。成立不久的中微半导体很快便跟上了业界水平，TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备、45nm介质刻蚀设备相继从其手中问世，展现出了中微强大的研发实力。

中微半导体的成功，代表着中国又在一个领域打破了西方的垄断。在多年发展中，其产能逐渐扩大，在2005与2012年，中微半导体分别建成了6500㎡和㎡的厂房。到2015年时，中微半导体的反应台交付量已经成功达到了400台，其营收也进一步增长，成长速度令人瞩目。

而在近年来，中微半导体一直一步一个脚印立足于研发。从45nm介质刻蚀机到22nm，其用了2年的时间。从22nm到14nm也用了将近两年的时间。但是，从14nm到7nm其却用了不到一年的市场，便研制成功。而在2019年时，其5nm刻蚀机也顺利交付，为今年5nm芯片的问世注入了一份力量。

当前，中微半导体已经做到了领先全球，其在集成电路和泛半导体设备研制领域，都走在了业界的前列。同时，中微半导体的MOCVD设备与VOC净化设备也相当了得。在去年，中微半导体成功于科创板上市，为首批上市公司中的一员。自此，中微的发展又走到了一个新的阶段。

在2019年，中微半导体创下了19.47亿元的营收。其中，其净利润增长尤为迅猛，与去年同期相比，增长了107.51%，达1.89亿元。接下来，中微半导体又将有怎样的表现，十分值得期待。对于中微半导体，你怎么看呢？

文/BU

审/JING

文章来源：《中国设备工程》 网址: http://www.zgsbgc.cn/zonghexinwen/2021/0302/1113.html